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半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法

创业项目背景图片 本次目应用于苏南形省市某一个国家级实验室光电器件高新产业园区,机构主要是生产加工8寸大和12寸大晶圆,日常量做到2万片。如今产能分析晋级,原始的污水加工治疗操作系统已是无法提供优质标准要求,急缺晋级拆除。顶目总投资费用约1一千万元,的设计加工治疗意识为300吨/日,于202在一年投入使用投产。 废水处理工艺成分表及来源地 该的企业晶圆划区工艺制造的生活污水包括收录下列成分表: 切割工作具体步骤中运行的机磨液残余物物,常见组成为二脱色硅小粒、外表催化相转移催化剂和可挥发修改剂 晶圆表面层的清洗生产的含氟化工废水,氟阴阳离子浓度值在80-120mg/L 少量的天价属阴离子如铜、镍等,种类于切用具受损 可挥发相转移催化剂残余,涵盖异丙醇、甲苯等 pH值浮动明显,一般是在4-10两者 操作鑫霖环保步奏 根据废液形态,设计制作主要包括"物理化学预治理 +血生化治理 +深层治理 "的组合名字工序: 调整池 :均等化水的硬度容量,装置pH迅雷在线检测方案和自动式投加机系统 混泥土悠长岁月中 :添加PAC和PAM,出掉悬停物和固体有害物质 气浮单无 :进行溶气气浮制作工艺进每一步的还原狗瘟颗料和部件有机质物 生化模式补救 :使用MBR膜生物体反應器,淤泥溶液浓度能维持在8000-10000mg/L 深层加工 :化学活化炭吸出+反侵入方法,为了确保喷水达到标准 工业废水处理 :板框压滤设备脱干,污水含水分率高于60%以内 处置效果好 装置可靠自动运行后,出水出水饮用水已经达到《自动化工业生产水环保问题物摆放规定》(GB39731-2020)特殊摆放规定值符合要求: COD<30mg/L 氟正离子<5mg/L 悬浮物物<10mg/L 巨资属四项公式均大于限制值 产品一年可增多污染源物产生量约COD 32吨、氟化物8.5吨,循环水率以达到75%以内,为客户节约电费付出约140万元/年。

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