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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作业厂地处华中区域,最主要的生產8厘米光电器件晶圆,单日化工废水排污量约800吨。随着生產方式中安全使用非常多的氢佛酸展开晶圆蚀刻,会造成化工废河中氟化物浓硫酸浓度高达hg200-300mg/L,远超国度排污基准(10mg/L之下)。 工业废水材质及来历 电镀废水重要产于6个节点: 晶圆蚀刻步骤 :含高浓硫酸浓度氟化物(HF)、盐酸及一少部分巨资属 有机化学机戒增加光泽(CMP)废液 :含纳米技术级硅颗粒剂、有机酸络合剂 系统冲洗生产废水 :含异丙醇、氧化还原电位等有机酸物 治理 工艺程序流程程序流程 适用"检查是否结晶+混疑结晶+程度过滤水"两级处理控制系统: 3级治疗 :污泥脱水氯化钙和氢腐蚀钙,出现氟化钙沉定,氟化物清理率达85% 二次元工作 :增添PAC(汇聚氯化铝)和PAM(pe塑料酰胺),弄掉胶体溶液态严重环境有害特性 一级进行处理 :顺利通过多媒介净化器和特异性炭降解,出液氟化物含量保持稳定在8mg/L以内 重要的装置也包括:pH模式自动调节器模式、斜管沉淀物池、板框刮刀离心机(工业废水脱水情况)。 终结治疗效果 顶目自动运行一年监测网数据统计信息显示: 氟化物人均溶液浓度:7.2mg/L(超过政府原则) COD消除率:92% 淤泥水分含量率:≤65% 年收回氟化钙副好产品约150吨,体现教育综合充分利用充分利用

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